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日本佳能表示自家的半導體NIL奈米壓印裝置也能造2nm晶片,價格僅ASML曝光機的10%

奈米壓印微影(Nano Imprint Lithography;NIL),先前已經被證明解析度可以達10nm以下。當晶圓來到了2nm以下的時候,ASML的曝光機越來越大,而且價格也越來越驚人。不過,其實目前在晶圓製作的過程中,在曝光這一過程除了純粹光學的技術之外,還有其他方法也可以製作半導體所需的精細圖案。 其中最受矚目的一項技術就是奈米壓印微影(Nano Imprint Lithography;NIL),先前已經被證明解析度可以達10nm以下。NIL技術主要由日本所開發主導,佳能(Canon)

经过: Techbang.com

  • Jan 10 2024
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